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Elevator
RV201
N2 Purge Function
Loadport
- N2 Purge Function
高濃度沖吹(O2<100ppm)可在2分鐘以內可達到高速。
次世代半導體的高潔淨度,當開關內扉時採用非接觸密封結構(迷宮式或空氣密封)可抑制Foup內部微塵或使用RORZE自吹板來抑制晶片汙染。
現存系統可安裝符合SEMI標準也可換置於現存載埠之關閉門扉用,對於定位(Mapping)CID與E84均有效。
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